细胞磨—对撞式研磨机

产品介绍

细胞磨—对撞式研磨机是一种通过高速对撞能量实现物料超细粉碎的湿法研磨设备。其核心设计采用多组研磨介质（如陶瓷珠或合金球）在密闭腔体内高速运动，利用介质与物料之间的剧烈碰撞、剪切作用，结合流体力学的层流与湍流效应，实现颗粒的纳米级破碎与分散。该设备适用于高硬度、高纯度材料的连续化生产，尤其擅长处理难粉碎的纤维、脆性及热敏感材料，出料细度可达0.5-10μm，且粒度分布均匀。

产品用途

二氧化硅，锆英砂，硅酸锆，氧化锆，云母，滑石，石墨，稀土，磷酸铁锂，氧化铝，氢氧化铝，氢氧化镁，水镁石，膨润土，高岭土，硫磺，重晶石，石英砂等非金属矿粉湿法超细研磨。

• 新能源材料：锂电池电极材料（如石墨烯、硅碳复合材料）、燃料电池催化剂的超细分散与均质化。

• 化工与涂料：高固含量颜料、染料、油墨的纳米级研磨，提升产品着色力与稳定性。

• 医药与生物技术：药物纳米粒、脂质体的制备，增强药物溶解性与靶向性。

• 矿物深加工：石英、云母、碳酸钙等非金属矿的超细粉碎，满足高附加值应用需求。

• 环保与再生资源：电子废料、工业固废的精细化处理，促进资源循环利用。

产品特点

集重力和流化技术于一体，两级耐磨聚氨酯盘结构，内衬采用耐磨陶瓷，水冷却装置，物料在研磨过程不与金属接触，占地面积小，立式安装，下进料，上出料，也可采用上进料，下出料和上进料，上出料。安装维护快捷，高效率，低能耗，无三废排放，调整进料可获得不同规格产品。此种研磨方式主要针对于物料纯度和杂质要求比较的物料，进料细度要求45um—1mm。

全自动连续化生产，效率高，能耗低，0.5-10μm细度可调控，粒径分布窄,带载启动容易，工艺路径短，设备内部可做非金属处理，物料研磨过程中不与金属接触，适合品味要求比较高的物料。

技术参数

工作原理

• 动力输入与介质加速：电机驱动转子高速旋转（线速度15-30m/s），带动研磨介质形成密集的能量场。

• 对撞粉碎阶段：物料与介质在高速运动中发生多向碰撞，颗粒通过动能传递被反复冲击、剪切，实现逐级破碎。

• 流体力学协同：腔体内层流与湍流交替作用，促进物料均匀混合并延长研磨路径，提升粉碎效率。

• 动态分离与出料：通过离心力或筛网系统分离成品，未达标颗粒返回研磨区继续处理，确保粒度一致性。